在半導(dǎo)體芯片的微觀世界里,有一種看不見的 “血液” 在支撐著每一個(gè)晶體管的運(yùn)作,它就是電子氣體。這種看似普通的氣體,實(shí)則是現(xiàn)代科技的核心材料,從手機(jī)到衛(wèi)星,從人工智能到量子計(jì)算,幾乎所有電子設(shè)備的誕生都離不開它。
電子氣體是指用于電子工業(yè)生產(chǎn)的高純度氣體,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、顯示面板、光伏等領(lǐng)域。在芯片制造過程中,電子氣體參與了光刻、刻蝕、沉積、摻雜等關(guān)鍵環(huán)節(jié),直接影響芯片的性能和良率。例如,硅烷(SiH?)用于薄膜沉積,三氟化氮(NF?)用于刻蝕,磷烷(PH?)用于摻雜。
電子氣體的分類細(xì)致而專業(yè),主要包括電子大宗氣體(如氮?dú)狻⒀鯕狻鍤猓┖碗娮犹胤N氣體(如硅烷、三氟化氮、六氟化鎢)。其中,電子特種氣體的技術(shù)門檻最高,純度要求通常達(dá)到 99.999%(5N)以上,甚至需要達(dá)到 99.9999999%(9N)的超高純度。
半導(dǎo)體制造
刻蝕工藝:氟碳類氣體(如四氟化碳)在等離子體作用下形成活性基團(tuán),精確去除晶圓表面的特定材料,形成納米級(jí)電路圖案。
薄膜沉積:硅烷和氨氣通過化學(xué)氣相沉積(CVD)在晶圓表面形成二氧化硅或氮化硅絕緣層,厚度可控制在原子級(jí)別。
摻雜工藝:磷烷、砷烷等氣體通過擴(kuò)散或離子注入技術(shù),改變半導(dǎo)體特定區(qū)域的電學(xué)性能,賦予芯片導(dǎo)電或絕緣特性。
顯示面板與光伏產(chǎn)業(yè)
前沿科技領(lǐng)域
超高純度要求
電子氣體中的微量雜質(zhì)(如金屬離子、水分)可能導(dǎo)致芯片短路或性能下降。例如,金屬雜質(zhì)含量需控制在萬億分之一(ppt)級(jí)別,顆粒度需小于 0.1 微米。為實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo),企業(yè)需投入大量研發(fā),如廣鋼氣體自主研發(fā)的 “Super-N” 系列制氮裝置,可穩(wěn)定生產(chǎn) ppb 級(jí)超高純氮?dú)狻?/p>
危險(xiǎn)性與安全管理
許多電子氣體具有易燃、劇毒或腐蝕性。例如,硅烷在空氣中自燃,砷烷和磷烷屬于劇毒氣體,三氟化氮具有強(qiáng)氧化性。半導(dǎo)體工廠通過專用存儲(chǔ)設(shè)施、泄漏檢測(cè)系統(tǒng)、緊急排放裝置和員工培訓(xùn)等措施,確保生產(chǎn)安全。例如,韓國(guó)海力士工廠曾因硅烷泄漏引發(fā)爆炸,促使行業(yè)引入光纖傳感技術(shù)監(jiān)測(cè)管道內(nèi)部泄漏。
國(guó)際壟斷與國(guó)產(chǎn)突破
全球電子氣體市場(chǎng)長(zhǎng)期被林德、液化空氣、空氣化工等國(guó)際巨頭壟斷,合計(jì)占據(jù) 90% 以上份額。近年來,國(guó)內(nèi)企業(yè)如華特氣體、南大光電、中船特氣等加速技術(shù)攻關(guān),部分產(chǎn)品已實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代。例如,華特氣體的光刻氣通過 ASML 認(rèn)證,進(jìn)入 5nm 制程供應(yīng)鏈;中船特氣的六氟化鎢、三氟化氮產(chǎn)品打破國(guó)外壟斷。
政策支持與市場(chǎng)增長(zhǎng)
中國(guó)將電子氣體列為戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè),政策推動(dòng)下,2023 年國(guó)內(nèi)電子特氣市場(chǎng)規(guī)模達(dá) 249 億元,預(yù)計(jì) 2025 年將增至 279 億元。國(guó)產(chǎn)化率從不足 10% 提升至 2025 年的 25%,高純氨、六氟化鎢等產(chǎn)品進(jìn)口替代率超過 30%。
國(guó)際合作與技術(shù)互補(bǔ)
國(guó)內(nèi)企業(yè)通過合資與技術(shù)引進(jìn)提升實(shí)力。例如,廣鋼氣體曾與林德合資學(xué)習(xí)技術(shù),后獨(dú)立發(fā)展成為國(guó)內(nèi)電子大宗氣體龍頭;中泰股份與韓國(guó)浦項(xiàng)制鐵合作生產(chǎn)高純度稀有氣體,拓展海外市場(chǎng)。
環(huán)保技術(shù)升級(jí)
電子氣體生產(chǎn)正朝著低碳、循環(huán)方向發(fā)展。例如,液化空氣在天津的 “汽改電” 項(xiàng)目,將空分裝置改為電力驅(qū)動(dòng),每年減少 37 萬噸二氧化碳排放。同時(shí),氣體回收技術(shù)(如氦氣循環(huán)利用)降低資源消耗。
前沿工藝需求
隨著 3nm 以下先進(jìn)制程、Micro-LED 顯示和鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的發(fā)展,電子氣體需滿足更高純度、更復(fù)雜混合比例的要求。例如,3D NAND 閃存層數(shù)增加,對(duì)六氟丁二烯等新一代蝕刻氣體的需求激增。
產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新
國(guó)內(nèi)企業(yè)通過產(chǎn)學(xué)研合作突破技術(shù)瓶頸。例如,同輝氣體與高校合作研發(fā)超純氧化亞氮提純技術(shù),易信環(huán)保攻克三氟化硼 - 11 電子特氣量產(chǎn)難題,填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空白。
電子氣體雖 “隱形”,卻在科技革命中扮演著關(guān)鍵角色。從實(shí)驗(yàn)室到生產(chǎn)線,從微米到納米,它是芯片制造的核心命脈,也是全球科技競(jìng)爭(zhēng)的戰(zhàn)略高地。隨著國(guó)產(chǎn)替代加速和技術(shù)創(chuàng)新突破,中國(guó)電子氣體產(chǎn)業(yè)正從 “跟跑” 邁向 “并跑”,未來有望在全球市場(chǎng)中占據(jù)更重要的地位,為 “中國(guó)芯” 注入更強(qiáng)動(dòng)力。